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嶺東科技大學 觀光與休閒管理系碩士班 林永森、黃文雄所指導 潘郁筱的 消費者美學知覺、品牌形象與購買意願之研究-以中式餐廳為例 (2021),提出edge chrome比較關鍵因素是什麼,來自於美學知覺、美學勞務、美學氣氛、品牌形象、購買意願、準實驗設計法。

而第二篇論文中原大學 化學工程學系 魏大欽所指導 趙廷儒的 以電漿化學氣相沉積法製備氮化矽薄膜之二維反應器模型設計與分析 (2021),提出因為有 電漿化學氣相沉積、氮化矽、鍍膜均勻性的重點而找出了 edge chrome比較的解答。

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接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了edge chrome比較,大家也想知道這些:

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新版 Microsoft Edge超好用的六招小技巧,Google Chrome、Apple Safari被取代了?
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*圖片內容截取自Google搜尋網站
**音樂與音效取自Youtube及Youtube音樂庫

消費者美學知覺、品牌形象與購買意願之研究-以中式餐廳為例

為了解決edge chrome比較的問題,作者潘郁筱 這樣論述:

隨著時間推移,美學已被廣泛運用於人們日常生活中的每個角落,食衣住行育樂無不缺乏美的存在,如今競爭日漸嚴峻的餐飲市場,如何利用美學創造自身獨特品牌形象,進而創造消費者的消費意願,並藉此提昇經營績效,已是研究與產業界持續關注的議題。本研究從消費者觀點出發,運用準實驗設計法探討消費者其美學知覺 (美學勞務、美學氣氛)對不同類型餐飲業其品牌形象及購買意願之差異情形。經由文獻回顧、相關理論提出研究假設及設計實驗影片,利用問卷收集資料及統計分析檢驗本研究假設。影片設計以台中市清新溫泉飯店附設天地一家中餐廳 (消費單價較高)、十二月 (消費單價中等)、蔡佩親海鮮現炒 (消費單價較低)等中式餐廳為本研究實驗

設計場域。問卷填答之受試者為觀光與休閒管理系 (餐旅服務相關專業)、流行設計系 (服裝、造型設計相關專業)之學生,研究方法採量化研究進行問卷調查,受試者於測驗前先觀賞個別餐廳之影片後填答問卷,獲得有效問卷共325份。經由統計分析後之研究結果說明如下:(一)受試者的其社經背景變項分佈,於性別部分主以女性居多;大學部三年級的學生居多;喜歡的餐廳類型以喜歡西式餐廳居多,其次為中式餐廳;天地一家、十二月、蔡佩親海鮮現炒各餐廳之用餐經驗皆以否居多;在選擇餐廳時會在意價格以同意居多。(二)人口統計變項於美學知覺、品牌形象、購買意願之差異情形:1.「喜歡的餐廳類型」在「購買意願」具有顯著差異;2.「十二月餐

廳用餐之經驗」在「品牌形象」與「購買意願」具有顯著差異;3.受測者在「美學氣氛」及「美學勞務」部分,無論是「美學特質」、「美學要求」或是「服務接觸」在各項人口統計變項上,皆無顯著差異。 (三)不同類型餐旅業的消費者其美學知覺 (美學勞務、美學氣氛)對「品牌形象」具有顯著差異,事後比較各餐廳品牌形象發現,十二月最高,天地一家次之,蔡佩親最低,產生此結果可能因大學階段之學生易受消費價格影響,而選擇忽視餐廳整體美學呈現,另外,餐旅業者利用美學知覺塑造的獨特形象,較能吸引學生階段的年輕消費者,且能使其對餐廳產生鮮明的品牌形象。(四)不同類型餐旅業的消費者其美學知覺 (美學勞務、美學氣氛)對「購買意願」

具有顯著差異,事後比較各餐廳購買意願發現,十二月最高,天地一家、蔡佩親最低,由於年輕消費者較會為獨特體驗買單,因此餐廳運用美學結合獨有的服務與氛圍,將能有效吸引年輕消費者的青睞,此可能是提升其購買意願的關鍵之一,此外若餐廳價格超出消費者能負擔的範圍,消費者可能不會因餐廳呈現之美學勞務、美學氣氛等美學知覺較好,而願意選擇到該餐廳消費。最後藉由上述研究結果提供餐旅經營者、未來研究學者後續管理經營及學術研究之參考。

以電漿化學氣相沉積法製備氮化矽薄膜之二維反應器模型設計與分析

為了解決edge chrome比較的問題,作者趙廷儒 這樣論述:

本研究為製備氮化矽薄膜之電漿化學氣相沉積之二維模型分析,為了解決鍍膜速率在晶圓邊緣處突然上升造成鍍膜均勻性下降的問題,建立了五種不同腔體條件的模型,再導入二維模擬,改變不同的操作參數,探討不同參數下能否改善整體鍍膜的均勻性。首先利用本實驗室先前學長所建立的模型及反應機制,發現鍍膜速率在晶圓邊緣處會有上升的情形,造成整體鍍膜均勻性下降,推測鍍膜均勻性受上電極以及進氣盤尺寸影響,所以重新繪製新的網格模型,針對上電極和進氣盤尺寸,將模型修改成五種不同的腔體構造,主要為上電極尺寸的改變,以及進氣盤和上電極相對位置的改變。接著將上述五種模型用CFD-ACE+進行二維的模擬,為了使模型在各種參數下能夠有

相同的趨勢,因此改變氮氣、SiH4以及操作壓力,再和原始的模型進行比對,探討氣相物種濃度的二維分布和鍍膜速率分布對膜均勻性的影響,並提出增加鍍膜均勻性的方法。發現同時縮短上電極和進氣盤的尺寸能夠使整體鍍膜的均勻性提高一點,但是鍍膜速率會略為下降;而只縮小進氣盤尺寸則會發現相比於同時縮小上電極及進氣盤尺寸時的鍍膜均勻性會更大幅提升,且鍍膜速率也並沒有下降太多,由於進氣盤尺寸較小,導致擴散至出口的距離較長,所以鍍膜粒子較不容易在轉角處累積,因此可以減少鍍膜速率飆升。