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液晶面板廠無塵室之氣態化學污染物質量測分析及研究

為了解決東南科技大學冷凍空調丙級的問題，作者許榮郎 這樣論述：

本文以液晶面板廠（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD）無塵室為研究標的，在實際生產之條件下用不同量測方法以獲得氣態化學分子污染(Airborne Molecular Contaminations, AMC)之分佈，並依據國際半導體設備暨材料協會（Semiconductor Equipment and Materials International, SEMI）的F21-95、F21-1102標準規範，將廠內空氣污染物的種類濃度分類分析後，該無塵室的等級如下：酸(Acids, Class MA)為MA-1,000、鹼(Bas

es, Class MB)為MB-10,000、可凝結性的有機污染物(Condensable Organic Compounds, Class MC) 為MC-10,000、重金屬(Trace Metals, Class MD) 為MD-10,000。 另外有關環境與安全衛生方面則根據SEMI-S2的標準規範，要求半導體廠的機台設計標準在一般的操作狀況下，必須將製程所使用的化學物質，於空氣中的濃度控制在 1 %的職業暴露標準(Occupation Exposure Level, OEL)之下；雖然液晶面板廠不是半導體產業，但是其前段Array製程與半導體的製程大同小異，且同

樣是要求在高潔淨度的無塵室工作環境中，因此建議同樣能將化學物質污染濃度控制在這個標準，依量測分析結果得知目前廠內的濃度皆在1 %的職業暴露標準範圍以下。 無塵室污染的成因，大部分是製程所使用的化學品和清潔保養用的有機溶劑逸散所造成，根據研究分析結果，可研擬因應AMC污染的改善措施及最佳化設計，同時提供相關業界參考及借鏡。