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活性碳控制氣態醋酸分子污染物之性能研究

為了解決友達光電龍潭廠的問題，作者許宸輔 這樣論述：

氣態分子污染物(醋酸)為造成高科技製程廠內之半導體及晶圓造成缺陷、降低產品良率的主要因素之一，丙二醇單甲基乙醚醋酸酯(PGMEA)是一種多功能溶劑，具有多種應用。PGMEA可用於印刷電路板(PCB)製造中焊罩過程中的溶劑，以及半導體和晶圓製造中使用的光阻和邊緣珠去除劑中的稀釋劑皆為PGMEA，PGMEA通過酸催化水解反應形成醋酸污染物，潔淨室有機酸總量(含醋酸污染物)濃度標準為0.002ppm。為了保護昂貴的光學元件，需控制PGMEA所產生之醋酸。為此，進氣濾網中的活性碳濾材可防止醋酸污染元件和材料腐蝕。本研究使用市售活性碳用來製成濾網並參考冷凍空調協會ASHRAE 145.1之標準方法來進

行本醋酸吸附實驗，本研究選用四種不同之醋酸濃度(4/6/8/10 ppm)參數，及適合活性碳吸附之三種濾網表面風速(0.03/0.06/0.09 m/s)參數當本研究之實驗條件，並分析其活性碳吸附醋酸之吸附量、等溫吸附模式及吸附動力學模型，瞭解當市售活性碳製成濾網時之吸附情形及吸附效果為何。醋酸吸附實驗之結果顯示MM3000活性碳比KPL活性碳具有最多吸附量及最長吸附飽和時間，且於固定風速下入口醋酸濃度越高飽和時間越短且吸附量越多；於固定醋酸濃度下風速越快飽和時間越短且吸附量越高。MM3000樣品之Langmuir之(R2)高於Freundlich之判定係數(R2)，說明此MM3000樣品吸附

現象較適合用Langmuir等溫吸附模式進行描述，是偏向單分子層在均勻表面上之吸附情形。KPL樣品之Freundlich之R2高於Langmuir之判定係數(R2)，代表此KPL樣品吸附現象較適合用Freundlich等溫吸附模式進行描述，是偏向不均勻表面上之吸附情形。MM3000活性碳及KPL活性碳之吸附情形比較適合用擬二階吸附動力學模式來描述，偏向化學吸附之現象。